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設備名稱(chēng):手動(dòng)紫外光刻機 品牌型號 ABM
設備用途
光刻機發(fā)出的紫外光通過(guò)具有特定圖形結構的掩膜版對樣片曝光,然后通過(guò)顯影將掩膜版上的圖形結構轉移到樣片表面的光刻膠上。
主要技術(shù)指標:
曝光波長(cháng):350nm---450nm
可加工尺寸:2inch 3inch晶圓和≥1.5cm2碎片
極限分辨率:3um
正面套刻精度:≤1um
線(xiàn)寬均一性:≤3%
曝光模式:接觸式曝光、接近式曝光