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設備名稱(chēng)：電子束曝光機 晶圓級制造
設備用途：電子束曝光是利用加速的聚焦電子束在抗蝕劑上曝光，顯影后便可在抗蝕劑上得到相對應的微納結構；用于各種高精度圖形結構的制備。
主要技術(shù)指標：
加速電壓：50kV
電子束電流：10pA~100nA
可加工尺寸：2inch、3inch、4inch、5inch和≥1cm不規則片
分辨率：10nm
套刻精度：50nm
